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有时候我们自己有个新想法,就以为是自己发明了什么重大成果,其
 
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前面说过了,即使在理想的情况下,就一个个体FET放大电路来说,能确切的是点,所以曲线应该是不能确切的,只能无限接近.
作为深入讨论,就要理解为什么要定义这条"预夹断轨迹",目的是为了区分开"不和合区"和"饱和区",以便讨论问题方便.可能换个方式来说可能更容易理解:
理论上的预夹断轨迹左侧是"不饱和区"右侧是"饱和区",但是因为FET的输出特性曲线的弯曲,如果只用一条"预夹断曲线"来区分"不饱和区"和"饱和区",并不能做到准确.会在二者之间有一个过渡态,也就是我们看到的每条输出特性曲线基本是三部分组成的,左面部分是斜向右上方的直线,右面部分是几乎平直的直线,但是在二者的中间有一段曲线的弯曲部分,既不是理想的"不饱和特性"也不是"理想的饱和特性".
可能越说越糊涂了,本来想画图示意一下,弄了半天也没弄好..... |
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