[经验心得] 有关“结型场效应管JFET”的那些事

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有时候我们自己有个新想法,就以为是自己发明了什么重大成果,其

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发表于 2015-6-7 13:36 | 显示全部楼层
hulx 发表于 2015-6-7 13:02
管子确定了,vp也确定了,图上看不出准确值,应该知道的。有了vp就能准确画出来预夹断轨迹了。

前面说过了,即使在理想的情况下,就一个个体FET放大电路来说,能确切的是点,所以曲线应该是不能确切的,只能无限接近.

作为深入讨论,就要理解为什么要定义这条"预夹断轨迹",目的是为了区分开"不和合区"和"饱和区",以便讨论问题方便.可能换个方式来说可能更容易理解:
理论上的预夹断轨迹左侧是"不饱和区"右侧是"饱和区",但是因为FET的输出特性曲线的弯曲,如果只用一条"预夹断曲线"来区分"不饱和区"和"饱和区",并不能做到准确.会在二者之间有一个过渡态,也就是我们看到的每条输出特性曲线基本是三部分组成的,左面部分是斜向右上方的直线,右面部分是几乎平直的直线,但是在二者的中间有一段曲线的弯曲部分,既不是理想的"不饱和特性"也不是"理想的饱和特性".

可能越说越糊涂了,本来想画图示意一下,弄了半天也没弄好.....

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 楼主| 发表于 2015-6-7 13:40 | 显示全部楼层
懂你说的,那个曲线过渡这不影响轨迹线的唯一性。比如你测的两个管子,一定有确定的vp值。

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发表于 2015-6-7 18:13 | 显示全部楼层
牛哥 发表于 2015-6-7 13:06
不用客气,论坛本来就是用来研讨技术的,图文并茂的形式更容易理解.
但是在这个曲线中,您的画法可能有有问 ...

牛哥,我们或许没有找到一个正确的方法去解释一个基本的原理,而刘老似乎一早就提到“微小信号”这个关键点,至于为什么要微小信号,刚才检索了一遍找到一篇文档,写得足够科学足够朴实,一切的疑团都能化开。

J-1.png

J-2.png

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 楼主| 发表于 2015-6-7 18:35 | 显示全部楼层
牛哥 发表于 2015-6-7 13:36
前面说过了,即使在理想的情况下,就一个个体FET放大电路来说,能确切的是点,所以曲线应该是不能确切的,只能 ...

终于回到电脑旁了,看下面,我就假定你的UPD5566的VP是-2V吧,不是-2V也无所谓,你懂的。蓝点是预夹断轨迹。

NPD5566.jpg



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发表于 2015-6-7 18:47 | 显示全部楼层
您继续~~~

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发表于 2015-6-7 21:29 | 显示全部楼层
LeonBernieniv 发表于 2015-6-7 18:13
牛哥,我们或许没有找到一个正确的方法去解释一个基本的原理,而刘老似乎一早就提到“微小信号”这个关键 ...

是的,您提供的资料很好。
刘老一开始也提到到了“弱小信号的放大”,从我在前面的做出来的负载线,就可以知道这种放大作用。正常的静态工作点,应该是在直流负载线的中间部分,这样才能输出信号的幅度最大。但是刘老的第一级,第二级管子的静态工作点都偏左,实际上是靠近或者进入了“不饱和区”,这样的工作点势必会造成输出动态的减小,也就是您说的适合“弱信号放大”,但是经过音源给出的信号并不是弱信号,伏特级别的信号了,已经算是强信号了。电路才不得已在输入端采用了衰减措施,把输入信号衰减了若干倍,然后再进入放大器进行放大。

但是这时候,我们如果仔细看看,仔细想想,是不是工作曲线的部分在“不饱和区”和“饱和区”之间的状态?之前我就一直在说,事情不要绝对,理论可以绝对,实际工作的时候,要根据具体的情况分析。
为什么我对于第一级,第二级的FET管的工作状态表现出来迷茫,原因也就在这里。因为条件所限,到现在我也不能确定刘老的第一级管子工作在“不饱和区”?“饱和区”?“或者是不饱和区与饱和区的交界处”,希望明白的朋友给予明示。

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发表于 2015-6-7 21:34 | 显示全部楼层
hulx 发表于 2015-6-7 18:35
终于回到电脑旁了,看下面,我就假定你的UPD5566的VP是-2V吧,不是-2V也无所谓,你懂的。蓝点是预夹断轨 ...

唉,我说了很久您也没有明白,也可能我的观点本来就是错的,所以说服不了人。
现在,假如您求出来的这条精准的“予夹断轨迹”是完全理论正确的,这条所谓精准的“予夹断轨迹”曲线有什么用处?

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发表于 2015-6-7 21:43 | 显示全部楼层


引起豚豚大人的关注了,我跑先,下面的任务交给您了。

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 楼主| 发表于 2015-6-7 21:55 | 显示全部楼层
牛哥 发表于 2015-6-7 21:34
唉,我说了很久您也没有明白,也可能我的观点本来就是错的,所以说服不了人。
现在,假如您求出来的这条 ...

您不是说得很清楚了,它的左边是XX,右边是XX。你测得两个管子参数一定有VP,我在图里面只是猜测,一定有误差的。
如果我想把工作区设置在饱和区,就不会搞得那么临界,而是稍稍靠右边一点,还要考虑管子的参数的离散性呢。
牛哥不能跑,本坛能正确画出负载线的,我目前见识的还就只有您一个!

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发表于 2015-6-8 11:12 | 显示全部楼层
牛哥 发表于 2015-6-7 21:43
引起豚豚大人的关注了,我跑先,下面的任务交给您了。

牛哥不能跑啊~

俺先复习下JFET。。。

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发表于 2015-6-8 12:32 | 显示全部楼层
hulx 发表于 2015-6-7 21:55
您不是说得很清楚了,它的左边是XX,右边是XX。你测得两个管子参数一定有VP,我在图里面只是猜测,一定有 ...

    按照您的想法,理论上是这样划分的,而且可以说泾渭分明,但是在实际应用中这个“确切”,如果真的工作在“予夹断轨迹”附近的时候,这个轨迹只能是参考,精准的定量意义不大。要注意定义“予夹断轨迹”的意义何在,不如定性的解释更合理。(其实我还是认为本来也是不能“确切”的,原因在101楼已经说过了)。
    也正好是刘老的4管FET前级,某些管子的工作曲线还真的就在这个轨迹的附近,正像您说的那样,每个人使用的管子型号不同,即使是同一种型号的管子还有离散性,这时候,非要深究管子到底是工作在哪个区没有意义,自己对于工作曲线和实际测量的工作点进行分析,有自己的看法就行了,即便是确定了管子工作在某个区,那么真正的意义是什么?还不是为了看看管子实际是工作表现是“不饱和特性”“饱和特性”或者是二者兼而有之?
    求大同存小异,我们在这之前,早就的出来的结论了“实际上FET在不饱和区是可以用于线性放大的。”   。
    至于工作点的选取,同样是每个人有每个人设计思路,并不一定按照“最大输出”“良好线性”的准则去选择工作点,这在电子管电路中已经是很常见的事情了,也正是因为同一种管子,使用了不同的的工作点,才带来声音表现的微妙变化。在刘老的4管FET前级中,正是因为选择了特殊的工作点,才有了不同常规做法的声音表现,这是很好的事情。
    如果您希望遵循“最大输出”“良好线性”的原则,完全可以对电路的工作点做重新调整,按照常规的电路形式来制作,成功也是必然的。但是肯定的说,二者的声音表现应该是有很大区别的,与之类似特殊工作点的电路,我做过一些试验,有了一些体会。

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发表于 2015-6-8 12:44 | 显示全部楼层
原谅我一钻原理的牛角尖就停不下来。
似乎是越来越认同牛哥在90楼贴的这张图示出的工作区域:


而后再确认两个变量Vds和Vgs,以及另一个关乎线性的Id
*当|Vgs|增大到等于Vp时,耗尽层两边向中间平移在沟道中央合拢,沟道全部被夹断。
这个由于设计条件是输入Ugs弱信号,完全夹断的情况可排除,实际工作区域在特性曲线横轴上部一点点。

*当Vgd=Vgs -Vds=Vp,此时的Vds值是预夹断电压。
这时关联到Vds,Vds受Ugs控制增大和减小,另外还有个Id是联动Vds影响线性的因素,我前面楼层贴的是在数学公式中去除Vds项的方法,回到刘老这个四管机,阿弥陀佛,Id在那个区域的变化量小之又小可以忽略,抱歉又一次从网上搬来一段文字原理:
http://zhidao.baidu.com/question/337124300.html
  1. Q:场效应管JFET,栅源电压造成沟道夹断后,漏极电流为零;漏源电压造成沟道夹断,漏极电流恒流。
  2. 同样都是沟道夹断,怎么漏极电流不一样呢?

  3. A:看这样可以不:
  4. 当vGS增大到一定值VP 时,两侧的耗尽层将在沟道中央合拢,沟道全部被夹断。由于耗尽层中没有载流子,因此这时漏-源极间的电阻将趋于无穷大,即使加上一定的电压vDS,漏极电流iD也将为零。这时的栅-源电压称为夹断电压,用VP表示。
  5. 设vGS值固定,且VP<vGS<0。当漏-源电压vDS从零开始增大时,沟道中有电流iD流过。由于沟道存在一定的电阻,因此,iD沿沟道产生的电压降使沟道内各点的电位不再相等,漏极端电位最高,源极端电位最低。这就使栅极与沟道内各点间的电位差不再相等,其绝对值沿沟道从漏极到源极逐渐减小,在漏极端最大(为 vGD|),即加到该处P+N结上的反偏电压最大,这使得沟道两侧的耗尽层从源极到漏极逐渐加宽,沟道宽度不再均匀,而呈楔形,
  6. 当vDS增加到vDS=vGS-VP,即vGD=vGS -vDS=VP(夹断电压)时,漏极附近的耗尽层即在上部合拢,这种状态称为预夹断。与前面讲过的整个沟道全被夹断不同,预夹断后,漏极电流iD≠0。因为这时沟道仍然存在,沟道内的电场仍能使多数载流子(电子)作漂移运动,并被强电场拉向漏极。若vDS继续增加,使vDS>vGS-VP,即vGD<VP时,耗尽层合拢部分会有增加,即漏极向源极方向延伸,夹断区的电阻越来越大,但漏极电流iD却基本上趋于饱和,iD不随vDS的增加而增加。因为这时夹断区电阻很大,vDS的增加量主要降落在夹断区电阻上,沟道电场强度增加不多,因而iD基本不变。
复制代码

前面楼主在104楼描出的预夹断轨迹,如果把横轴放大拉开的话,那个预夹断轨迹可以象下图一样以渐近方式一直往0延伸,那些黑点不是看起来那样与横轴重合。
Screenshot from 2015-06-08 12:42:32.png

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LeonBernieniv 发表于 2015-6-8 12:44
原谅我一钻原理的牛角尖就停不下来。
似乎是越来越认同牛哥在90楼贴的这张图示出的工作区域:



"前面楼主在104楼描出的预夹断轨迹,如果把横轴放大拉开的话,那个预夹断轨迹可以象下图一样以渐近方式一直往0延伸,那些黑点不是看起来那样与横轴重合。"

恩,就是这样的情况,因为之前哦哦们使用FET的时候,大多数是工作在“饱和区”,主要看的“饱和区”的V-GS控制ID的能力,很少再使用更深的栅负压。但是从我上的几个曲线图图中,还是能明显的看到,当栅负压绝对值达到一定程度的时候,继续的加深栅负压,曲线将变得逐渐密集起来,也就是你说的“渐进方式。。。。”

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发表于 2015-6-8 13:22 | 显示全部楼层
牛哥 发表于 2015-6-8 13:08
"前面楼主在104楼描出的预夹断轨迹,如果把横轴放大拉开的话,那个预夹断轨迹可以象下图一样以渐近方 ...

真是很感谢刘老、楼主、牛哥,基本就是这样一个区域!看起来要搞清刘老这个四管机的原理,转移特性和输出特性要稍微放大加工一下才行,就是那个C区!

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发表于 2015-6-8 13:44 | 显示全部楼层
讨论的好热烈不过俺还是没看懂。

好像大该得画张X轴满度为0。5V的输出特性曲线了。

那Y轴也得同步的放大才能“看清”和读懂了。

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第一级VDS=0。2V

第二级VDS=1。1V

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牛哥 发表于 2015-6-8 12:32
按照您的想法,理论上是这样划分的,而且可以说泾渭分明,但是在实际应用中这个“确切”,如果真的工 ...

是得~

把元件参数用到“濒死”的状态有时也可出声的。

但能不能经得起严格的测试就不得而知了。

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发表于 2015-6-8 17:03 | 显示全部楼层
牛哥啊~

别研究那么深了。。。

跟咱一块儿玩个636吧。。。
OTL-1.JPG

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LeonBernieniv 发表于 2015-6-8 13:22
真是很感谢刘老、楼主、牛哥,基本就是这样一个区域!看起来要搞清刘老这个四管机的原理,转移特性和输出 ...

等等~~~这里有个关键性的错误。
实际的C区是基本与横轴重合的那条线与横轴就之间的区间,因为这时候ID=0,其实是极小的。只不过为了看着方便才特意把C区扩大化了。
您的意思我和楼主都明白了,在84楼。
“牛哥的曲线,C区是夹断区,管子夹断漏极电流为零。我明白您的意思,是想说是工作在靠近夹断区的饱和区内吧?”

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zhke 发表于 2015-6-8 17:03
牛哥啊~

别研究那么深了。。。

636单管来复机,图片里元件好像有些多了。
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