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死区时间过短,小于关断延迟,上下管同时导通导,MOSFET发热大,效率下降。
死区时间太长,死区期间负载电流通过MOSFET体二极管续流,它的压降导致输出波形凹陷,造成交越失真并且THD明显的上升。
究竟多少ns合适,他是由开关速度、器件特性、控制精度来决定的,没有人能给出一个精确的答案,但是也有一些大厂测试得出的经验可以套用,大致使用下来不会有太大的问题:
低Qg快恢复体二极管的MOSFET,可以缩短死区时间在10-30ns;
高开关频率,比如400kHz-1MHz,必须要短一点的死区时间,通常小于20ns,不然开关周期占比太高,失真会变大;
比较高的工作电压,比如36V或以上,MOSFET关断延迟增大,要留有安全的裕量,一般会大于30ns;
还有拓扑结构,半桥一般20-50ns,全桥是差分驱动,抗噪比较强,一般在10-30ns 。
如果追求极致,有强迫症,非要一个精确的数值,那就必须要根据MOSFET特性、工作电压及拓扑结构的实际情况,实际测试来决定。
用示波器看一下半桥节点的波形,确认没有直通电流尖峰;在带载的条件下,测试THD和效率曲线,找到拐角点。
然后一边调一边测,直到找到兼顾高效率和低失真的最佳的平衡点,那个时间,就是你需要的最佳死区时间。 |
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