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本帖最后由 Lou 于 2018-3-26 03:31 编辑
三重擴散, 跟用三塊金屬板堆在一起,熱量由一塊散熱到另一塊,再散到另一塊毫無關係 !
三重擴散是半導體製程的一種 !
你能上 Google 嗎?
以下為部分節錄. 討論的是如何改進 1970 年代的三重擴散技術.
https://patents.google.com/patent/CN101383288A/zh
三重扩散片制作功率晶体管的方法早在上世纪七十年代就已成熟,由于晶 体管的集电区、基区、发射区皆由扩散方法获得,因此上述制取N-7N+基片结构 的方法被称为三重扩散工艺。当前三重扩散技术已成为半导体制造业的一门重 要技术。三重扩散晶体管的特点是以晶格完整的优质高阻硅单晶材料代替高阻 硅外延材料来制造PN结核心部分,而仅起基础支撑作用的低阻N+层则由较低成 本的N型杂质向硅中扩散形成,从而避开外延材料的各种缺陷影响,得到较高性 价比的金属-氧化物-半导体场效应晶体管(功率DMOSFET)。 发明内容
本发明的目的是克服现有技术的不足,提供一种硅三重扩散衬底制造金属-氧化物-半导体场效应晶体管(功率DMOSFET)的方法。 包括如下步骤:
1)在硅单晶片整个面上预扩散N+半导体杂质;2) 在12601300"C温度下,进行100250小时硅内预扩散N+杂质的推结;
3) 研磨去除一表面的N+扩散层并抛光N-面为镜面;
4) 在N-7N+硅基片上制成金属-氧化物-半导体场效应晶体管(功率 DMOSFET)。
所述的步骤l)中杂质预扩散的时间为24小时,温度为U00125(TC。 所述的步骤2)中温度为12701290°C,扩散时间为100250小时。 所述的步骤4)中,N+层的厚度为150微米-220微米。 本发明的优点是革除了常规采用材料成本高的硅外延片制造金属-氧化物-...........
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